プロセス制御と排出ガス監視のための気体分析
産業用ガスアナライザと計測システム一式は、プロセス制御と排出ガス監視をサポートします。粒子測定、デジタルソリューション、トンネル監視も製品ラインナップに含まれます。
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標準的製品
高い信頼性と堅牢性、容易なメンテナンス
技術的卓越性
シンプルさ
特殊仕様の製品
要件の厳しいアプリケーション向けに設計
技術的卓越性
シンプルさ
FLEX セレクション
技術的卓越性
シンプルさ
Fundamental セレクション
基本的な測定要件に対応
技術的卓越性
シンプルさ
技術的卓越性
シンプルさ
Extended セレクション
革新的な技術でプロセスを最適化
技術的卓越性
シンプルさ
Xpert セレクション
最も困難なアプリケーションにも対応
技術的卓越性
シンプルさ
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測定変数
ガス成分、発熱量、密度、ウォッベ指数、モル質量、圧縮係数
測定媒体
天然ガス、バイオガス、空気、H2、O2、N2
測定変数
NO、NO₂、NH₃、SO₂
プロセス温度
≤ +550 °C
周囲温度範囲
–20 °C ... +55 °C 温度変化:最大 ±10 °C/h
防爆認証
IECEx: Ex pzc op is [ia] IIC T3 Gc ATEX: II 3G Ex pzc op is [ia] IIC T3 Gc
測定変数
粉じん濃度(重量法による比較測定後)、ガス流速、ガス圧力、ガス温度
プロセス温度
–20 °C ... +200 °C
プロセス圧力
–70 hPa ... 10 hPa
測定原理
分析計向け状態監視
対応製品
FLOWSIC200、GM32、MCS100FT、MCS200HW、MCS300P、MERCEM300Z、VICOTEC320、VICOTEC450、VISIC100SF、VISIC50SF、DUSTHUNTER SB100、DUSTHUNTER SP100、FLOWSIC100、MARSIC300、VICOTEC410、GMS800(DEFOR + OXOR)
データ出力
Monitoring Box フロントエンド ダッシュボード上のアラート メールによる通知 データエクスポート(CSV) 外部システムへのデータ連携(API)
ホスティング
オフプレミス:https://monitoringbox.endress.com 産業用 PC、その他のソリューションはご要望に応じて対応可能
契約形態
SaaS(Software as a Service)
測定原理
前方散乱光
プロセス温度
−40 °C~+220 °C
測定範囲
散乱光強度:0~7.5 mg/m3 / 0~3,000 mg/m3 測定範囲は自由に選択可能。9つの測定範囲を事前設定済み(0~7.5/15/45/75/150/225/375/1,000/3,000 mg/m3)
適合規格
TÜV型式試験 DIN EN 15267-1(2009)、DIN-EN 15267-2(2009)、DIN EN 15859(2010)、DIN EN 14181(2014)に準拠した適合性試験済み 認可が必要な設備において、集じん機下流のフィルタ制御用粉じんモニタおよびリークモニタとしての使用認証取得済み(13th BlmSchV、17th BlmSchV、27th BlmSchV、30th BlmSchV、44th BlmSchVおよびTA Luft)
測定変数
CO2、 SO2、 NO、 NO2、 CO、 NH3、 H2O、 CH4
周囲温度範囲
0 °C ... +50 °C 型式承認範囲:最高45 °C
適合規格
MARPOL Annex VI and NTC 2008 – MEPC.177(58) Guidelines for exhaust gas cleaning systems – MEPC.340(77) Guidelines for SCR reduction systems – MEPC.198(62) DNV Rules for Type Approvals (2012) IACS E10 and Rules of major classification societies
測定変数
CH4、CO、CO2、Corg、HCl、H2O、NH3、NO、NO2、N2O、O2、SO2
周囲温度範囲
+5 °C~+50 °C
測定範囲
60種類を超える測定成分に対応(濃度およびサンプルガス組成に依存) 最大6成分を同時測定 1成分あたり2つの測定範囲 自動測定範囲切替(調整可能) 1成分あたり2つのリミット値 測定範囲はアプリケーションおよび測定成分の組み合わせに依存
演算
5秒値、平均値、日平均値、月平均値、年平均値、移動月平均、質量排出量、日質量排出量、月質量排出量、年質量排出量、日カウンタ、月カウンタ、年カウンタ
測定変数
O2
測定範囲
O2:0~5 Vol.-% / 0~100 Vol.-%
当社の測定作業に適したアナライザは、どれですか?
最初の選択には、製品ファインダをご利用ください。複雑な測定点や、完全なシステムの場合は、弊社の気体分析スペシャリストまでお問い合わせください。
プロセス制御、排出ガス監視、製品品質、プラントの安全を支えているのは、ガスの組成や濃度、粉塵量、視程、煙の検知などに関する信頼性の高い測定値です。Endress+Hauserの製品ラインナップには、ガスアナライザおよび計測システム一式、粉塵および粒子測定、排出ガスデータ取得、状態監視、トンネル監視用センサなどが網羅されています。
効率的なプロセス制御: プロセスの制御、製品歩留まりの向上、一貫した製品品質の維持の基礎となるのは、継続的な測定値です。信頼性の高い測定結果: 測定技術および計測システム一式は、測定作業、ガス組成、および測定点における条件を踏まえ、構成が決まります。プラントの安全と環境規制の遵守: 継続的な監視により、危険なレベルのガス濃度が特定され、また安全な操業と規制遵守の記録に必要な測定値や排出データが得られます。高いシステム可用性: 自己監視、内部リファレンスチェック、交換可能なモジュール、およびリモート診断により、メンテナンスの必要性を早期に検出し、ダウンタイムを低減します。容易な統合と試運転: 標準化されたインタフェースと、あらかじめ設置・相互接続され、工場で試験済みのシステムにより、設置作業が軽減され、現場での試運転が簡素化されます。低いライフサイクルコスト: メンテナンス要件が低く、消耗品も少なく、またモジュール式コンポーネントや状態ベースのサービスを採用しているので、耐用期間を通じた運転コストが削減されます。
適切な産業用ガスアナライザを選択するには、まず最初に、測定対象となるガス成分と濃度範囲を確認します。どの測定原理やシステム設計が適切なのかは、ガスマトリックスや測定点における条件(温度、圧力、水分、粉塵負荷、成分の腐食性・毒性・可燃性など)によって決まります。
用途に応じて、測定はin-situアナライザを用いてプロセス内で直接行うことも、抽出式システムを用いて行うことも可能です。サンプルを採取する場合は、サンプリングおよびガスのコンディショニングの過程で、分析するまで、当該ガス成分をそのままに保つ必要があります。これにより、ホット・ウェット方式とコールド・ドライ方式のどちらのシステムが必要なのかが決まります。
さらに、設置条件、危険区域に関する要件、インタフェース、およびメンテナンスコンセプトにより、最終的な仕様が決まります。この結果、スタンドアロンのアナライザ、モジュラーシステム、または用途に適した計測システム一式といったソリューションが導かれます。
同じアナライザ技術でも、果たす役割は産業によって異なります。化学プラントや製油所 では、閉ループ制御、製品品質、危険なガス組成の早期検出のためにオンライン分析が採用されています。鉱業、鉱物、金属産業 では、気体分析を利用して、焼成、製錬、焼結におけるプロセスや排出ガスを監視することで、環境規制の遵守とプロセス安全性が向上します。電力 および廃棄物発電プラント では、燃焼や排ガス処理から最終的な排出測定点に至るまで、複数の段階で測定が行われます。船舶 の場合は、システムは振動、限られたメンテナンス可能時間、変動する運転条件、また船級型式承認の要件にも対応する必要があります。
プロセス制御、製品品質、プラントの安全のためのプロセスガス分析
あとから実験室で得られる分析結果では間に合わないような地点に関しては、プロセスガスアナライザはオンラインでデータを提供します。こうした値を制御システムに組み込むことで、反応、燃焼段階、またはガス処理工程を稼働中に調整することができます。同じ技術を用いて、原料や製品の品質を検証したり、ガス組成における安全上重要な変化を検知することも可能です。
必要な構成は、単一のin-situ機器、モジュール式の抽出型アナライザ、あるいはサンプリング機器とコンディショニング機器と制御機器を備えた完全な気体分析システムなどです。それと同時に、分析方法、プロセス接続、ハウジング、インタフェース、および危険場所向けの設計も選択します。これにより、用途にとって不要なシステムスコープを追加せずに、ガスストリームや測定作業に適したソリューションを実現することができます。
©Endress+Hauser
排出ガス監視は、「工場から何が排出されるのか」、「それをどのように記録する必要があるのか」という、別の疑問にも答えます。排出ガス連続監視システム(CEMS)は、当該施設で指定されている汚染物質および基準パラメータを測定します。燃料、プロセス、ガス浄化の各段階でガスマトリックスが決定されます。また、適用される規則によって、どのような成分、測定範囲、品質保証手順が必要なのかが決まります。
アナライザは、こうしたチェーンの一部にすぎません。CEMSには、ガスのサンプリングとコンディショニング、粉塵およびガス流量の測定、制御機器、排出ガスデータ管理などが含まれる場合もあります。モジュール式キャビネットなら、要件が変化しても、測定コンポーネントを追加することができます。大規模なプロジェクトでは、工場でシェルター一式を組み立て、連結し、試験することも可能です。こうすることで、現場での作業やインタフェースの数が削減され、迅速な設置と試運転が可能になります。
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粉塵の測定と監視では、煙突での粒子の排出を記録したり、フィルタバッグの損傷を検知したり、粉砕、注入、その他のプロセス段階での濃度を追跡することができます。こうした作業で必要になる機器は、必ずしも同一ではありません。測定場所、予想される濃度、粒子の特性、ダクトの形状、ガスの流速、ガスの状態といった、あらゆる要素が機器の選択に影響を与えます。
低濃度~中濃度域では散乱光式の計測機器が使用されるのに対し、中濃度~高濃度域やダクト径が大きい場合は透過式の計測機器が使用されます。コンパクトなプローブ構造なので、片側から取り付けでき、自己監視機能によってルーチン作業の負担が軽減されます。飽和状態の煙道ガスには異なるアプローチが必要です。水滴が粒子としてカウントされてしまうので、粉塵濃度を測定する前に、抽出バイパスによってガス流の一部を露点以上に加熱するのです。
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コンプライアンスレポートでは、適用される規則に基づき、測定値と動作状態を収集・確認・保存・提示する必要があります。MEAC300 のようなデータ収集・処理システムを使用すれば、アナライザからの信号は、限度値超過、ステータス情報、各種レポートを含む、トレーサブルな排出量データや稼働データへと変換されます。
監視ボックス は、これとは異なる役割を果たし、現在と過去の機器データを組み合わせることで、アナライザやシステムの状況の変化を可視化します。この情報を活用すれば、操作チームとサービスチームは、何らかの対応が必要かどうかを判断することができます。また、サービス訪問前に、必要なスペアパーツを含め、作業を準備することもできます。
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道路トンネルでは、専用のセンサーがそれぞれ異なる役割を担っています。空気質測定機器は、CO(および機器の構成によってはNOまたはNO2 )とともに視程を監視し、換気制御のためのデータを提供します。空気の流速と方向も別途測定します。煙感知器は、数秒以内に煙の粒子を検知し、トンネル制御システムに警報を発します。用途によっては、専用の視程測定機器を使用し、トンネル内の視程を追加で測定します。
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蛍光消光(QF) アナライザは、幅広いプロセス用途において迅速で連続的な酸素測定を行います。利用可能なアナライザについて詳しくご覧になり、測定作業に最適なソリューションを見つけてください。
ラマン分光法 アナライザは、幅広いプロセス用途においてガス組成の測定を行います。利用可能なアナライザについて詳しくご覧になり、測定作業に最適なソリューションを見つけてください。
気体分析とは何ですか?
産業ガス分析は、ガスストリーム中に、どのような成分が、どの程度の濃度で含まれているのかを特定します。分析結果は、プロセス制御、製品やガスの品質、プラントの安全、排出ガスの監視などに利用することができます。
ガスアナライザの動作原理は何ですか?
ガスアナライザは、成分の物理的または化学的特性を利用して、その濃度を測定します。赤外線または紫外線の吸収を利用することがあります。また、ガスフィルタ相関法を使用することもあります。その他の方法としては、水素炎イオン化検出や熱伝導度法などがあります。電気化学セルや二酸化ジルコニウムを使用することもできます。どの原理が最適なのかは、成分、範囲、ガスマトリックスによって決まります。
産業用ガスアナライザは、実験室用のアナライザとは、どのように異なるのですか?
実験室のアナライザは、管理された条件下で、個々のサンプルを分析するのに使用されます。これに対し、産業用ガスアナライザは、測定点におけるガス組成や条件に応じて構成が決まり、プラントの運転中に測定値をもたらします。産業用ガスアナライザは、プロセス制御、製品品質、プラントの安全、排出ガス監視をサポートするもので、単独の機器として使用することも、サンプリングやガスのコンディショニングやデータ取得を行う計測システム一式の一部として使用することもできます。
プロセスガス分析と排出ガス監視の違いは何ですか?
プロセスガス分析は、プロセス制御、製品品質、プラントの安全に役立つ測定値をもたらします。排出ガス監視は、排気または煙道ガス中の汚染物質や主要な基準値を測定します。これにより排出ガスを記録し、規制要件を満たすことができます。
in-situ分析と抽出ガス分析の違いは何ですか?
in-situアナライザは、ダクトまたはプロセス中で直接測定します。抽出式システムは、ガスストリームの一部を抜き出してアナライザへ移送し、必要に応じてコンディショニングを行います。どちらを選ぶのかは、成分、応答時間、ガスの状態、測定点、メンテナンスの考え方によって決まります。
排出ガス連続監視システム(CEMS)とは何ですか?
CEMSは、産業設備用に指定された汚染物質や基準パラメータを連続的に測定・記録します。用途に応じて、このシステムにはガスアナライザが含まれる場合があります。また、粉塵および流量測定が含まれる場合もあります。サンプル処理および制御機器が含まれる場合もあります。排出ガスデータ管理が含まれる場合もあります。
産業用ガスアナライザは、どのような用途で使用されますか?
ガス組成がプロセス制御、製品やガスの品質、燃焼、プラントの安全、あるいは排出ガスに影響を及ぼす、あらゆる場所で使用されています。発電、廃棄物焼却、セメント、化学産業および製油所、金属・鉱業、船舶システム、その他多くのプロセス産業で活用されています。
用途に適した産業用ガスアナライザを選ぶには、どうしたらよいですか?
まず、測定する成分、範囲、精度、応答時間、および目的をはっきりと決めます。次に、ガスマトリックスおよび測定点における条件(温度、圧力、水分、粉塵など)について検討します。さらに、設置、危険区域に関する要件、規格、データ処理、メンテナンス、ライフサイクルコストによって、最終的な仕様が決まります。
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