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Dipfit CPA140

浸漬ホルダ
ディップフィット CPA140

化学、石油化学、ライフサイエンス、電力工業向けの高耐久性浸漬ホルダ

CPA140
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Dipfit CPA140 ©Endress+Hauser

仕様一覧

  • プロセス温度

    最高150 °C（302 °F）

  • プロセス圧力

    最大 1 MPa（145 psi）

アプリケーション

ディップフィット CPA140は腐食性の高い測定物など過酷なアプリケーション用の浸漬ホルダです。フランジ接続により安全にプロセスに設置でき、3本の電極の取付が可能です。バイヨネットロックにより、粘性のある測定物や粒子を含む測定物中でも簡単に電極を設置することができるため、メンテナンスや再校正の時間を削減します。

Dipfit CPA140 は、以下の産業における最大圧力 1MPa（ステンレススチール）または0.6MPa（PVDF）の密閉タンクでの使用に最適です。

  • 化学産業

  • 石油化学産業

  • 製薬およびライフサイエンス

  • 発電所及び焼却処分場

  • 金属精製産業

利点

  • バイヨネットロックにより電極ホルダの取付けと取外しが容易

  • 各種フランジ（DIN、ANSI、JIS）により、柔軟なプロセス接続が可能

  • GORE-TEX製のフィルタにより凝結を抑制

  • pH、ORP、温度センサおよび洗浄ユニットのセンサを3本まで取付け可能

成功事例

  • ドイツ StadeのDow工場 ドイツ StadeのDow工場

    排水中のpH測定ポイントの自動化

    ドイツのStadeのDow工場では、生産排水処理におけるpHモニタリングにEndress+Hauserのソリューションを採用しています。

  • チリのMinera Valle Central社は、オンラインで界面測定と濁度監視を行っています。 チリのMinera Valle Central社は、オンラインで界面測定と濁度監視を行っています。

    Minera Valle Central社で濃縮槽の操作性が向上

    濃縮槽の界面測定は手作業で実施され、濁度測定は採取したサンプルをラボに送って行われていました。Endress+Hauserにより、自動化ソリューションが導入されました。

  • Company site of Meta Nikel Kobalt in Türkiye Company site of Meta Nikel Kobalt in Türkiye

    The future of mining

    Automatic cleaning, calibration, and monitoring of Memosens pH sensors with the CDC90 for efficient operations in mining applications.

  • 発電所におけるSWAS分析ソリューション 発電所におけるSWAS分析ソリューション

    GETEC PARK.SWISSにおける水/蒸気回路

    GETEC SWISS.PARKは、Endress+HauserのSWASシステムにより、プラントの効率改善とダウンタイムの短縮を実現しました。

  • Picture of Teqwave T – Ultrasonic concentration meter Picture of Teqwave T – Ultrasonic concentration meter

    Measurable and testable: Monitoring with Teqwave

    Efficient component cleaning is an important part of the production of industrially manufactured components. Borer Chemie AG therefore relies on the concentration measurement with Teqwave F, I and T.

  • シンプルな製品

  • 選定、設置、操作が簡単

技術的卓越性

シンプルさ

  • 標準的製品

  • 高い信頼性と堅牢性、容易なメンテナンス

技術的卓越性

シンプルさ

  • ハイエンド製品

  • 高性能で高い利便性

技術的卓越性

シンプルさ

  • 特殊仕様の製品

  • 要件の厳しいアプリケーション向けに設計

技術的卓越性

シンプルさ

高い柔軟性

FLEX セレクション 技術的卓越性 シンプルさ
  • F
  • L
  • E
  • X

Fundamental セレクション

基本的な測定要件に対応

技術的卓越性
シンプルさ
  • F
  • L
  • E
  • X

Lean セレクション

コアプロセスの要件に対応

技術的卓越性
シンプルさ
  • F
  • L
  • E
  • X

Extended セレクション

革新的な技術でプロセスを最適化

技術的卓越性
シンプルさ
  • F
  • L
  • E
  • X

Xpert セレクション

最も困難なアプリケーションにも対応

技術的卓越性
シンプルさ

高い柔軟性
製品の比較

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