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リトラクトブルホルダ Cleanfit CPA472D

手動式/ 自動式リトラクタブルホルダ
Cleanfit CPA472D

産業プロセス向けの頑丈なホルダ

CPA472D
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リトラクトブルホルダ Cleanfit CPA472D ©Endress+Hauser
Cleanfit CPA472D - センサホルダ ©Endress+Hauser
Cleanfit CPA472D - 過酷なプロセス条件に対応 ©Endress+Hauser

仕様一覧

  • プロセス温度

    0～140 °C（32～284 °F）

  • プロセス圧力

    0～最大400 kPa（0～最大58 psi）：手動作動時の過圧
    0～1 MPa（0～145 psi）：空圧作動時の過圧

アプリケーション

Cleanfit CPA472Dは過酷なプロセス条件に対応するホルダです。耐久性のある材質を使用しているため、高圧・高温下でも腐食性の高い測定物の計測を安全に行うことができます。プロセスを中断することなくセンサを交換でき、またオプションの制御システムによりセンサを自動的に洗浄および校正します。取り扱いが簡単で作業時間を短縮できるため、センサの動作寿命を延長することができます。

  • 化学産業

  • 発電所

  • プラント

  • タンク、プロセス容器

  • パイプラインまたはパイプ

利点

  • メンテナンスが容易な設計

  • 溶媒との接触部にポリマー(PEEK; PVDF, 導電性PVDF)を使用することで優れた圧力耐性のホルダを実現

  • 優れた温度耐性

  • 優れた化学薬品耐性

成功事例

  • ドイツ StadeのDow工場 ドイツ StadeのDow工場

    排水中のpH測定ポイントの自動化

    ドイツのStadeのDow工場では、生産排水処理におけるpHモニタリングにEndress+Hauserのソリューションを採用しています。

  • チリのMinera Valle Central社は、オンラインで界面測定と濁度監視を行っています。 チリのMinera Valle Central社は、オンラインで界面測定と濁度監視を行っています。

    Minera Valle Central社で濃縮槽の操作性が向上

    濃縮槽の界面測定は手作業で実施され、濁度測定は採取したサンプルをラボに送って行われていました。Endress+Hauserにより、自動化ソリューションが導入されました。

  • Company site of Meta Nikel Kobalt in Türkiye Company site of Meta Nikel Kobalt in Türkiye

    The future of mining

    Automatic cleaning, calibration, and monitoring of Memosens pH sensors with the CDC90 for efficient operations in mining applications.

  • 発電所におけるSWAS分析ソリューション 発電所におけるSWAS分析ソリューション

    GETEC PARK.SWISSにおける水/蒸気回路

    GETEC SWISS.PARKは、Endress+HauserのSWASシステムにより、プラントの効率改善とダウンタイムの短縮を実現しました。

  • Picture of Teqwave T – Ultrasonic concentration meter Picture of Teqwave T – Ultrasonic concentration meter

    Measurable and testable: Monitoring with Teqwave

    Efficient component cleaning is an important part of the production of industrially manufactured components. Borer Chemie AG therefore relies on the concentration measurement with Teqwave F, I and T.

  • シンプルな製品

  • 選定、設置、操作が簡単

技術的卓越性

シンプルさ

  • 標準的製品

  • 高い信頼性と堅牢性、容易なメンテナンス

技術的卓越性

シンプルさ

  • ハイエンド製品

  • 高性能で高い利便性

技術的卓越性

シンプルさ

  • 特殊仕様の製品

  • 要件の厳しいアプリケーション向けに設計

技術的卓越性

シンプルさ

高い柔軟性

FLEX セレクション 技術的卓越性 シンプルさ
  • F
  • L
  • E
  • X

Fundamental セレクション

基本的な測定要件に対応

技術的卓越性
シンプルさ
  • F
  • L
  • E
  • X

Lean セレクション

コアプロセスの要件に対応

技術的卓越性
シンプルさ
  • F
  • L
  • E
  • X

Extended セレクション

革新的な技術でプロセスを最適化

技術的卓越性
シンプルさ
  • F
  • L
  • E
  • X

Xpert セレクション

最も困難なアプリケーションにも対応

技術的卓越性
シンプルさ

高い柔軟性

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