波長可変半導体レーザー（TDLAS）
プロセスガス流内の不純物検出および濃度測定を行うレーザー式光学技術により、プラントの安全性と効率を向上
TDLASは、プロセスガス中のppmレベルの低い不純物をオンラインかつリアルタイムで測定します。ガスプロセスやパイプライン内の水蒸気（H2O）、二酸化炭素（CO2）、硫化水素（H2S）アンモニア（NH3）、アセチレン（C2H2）などを測定するために、この技術がガスプラント事業者によって広く使用されています。早い応答時間で正確かつ安定した測定が可能なTDLASにより、プラントの安全性、効率、および可用性を低コストで実現できます。
利点
安定して確実かつ非常に高速な検体測定が可能
パイプラインの腐食防止や爆発リスクの低減により、作業員の安全性および設備資産の健全性を維持
シャットイン、燃焼、およびガス移送の遮断を回避することで、プロセス効率およびプラントの可用性を向上
コンプレッサオイル、グリコール、メタノール、アミン、H2S、または水分を含むスラグによる干渉や悪影響を受けにくく、確実かつ継続的なガス移送を可能にするとともに、ガス移送時に発生する問題を排除
コンパクトかつメンテナンスの手間がかからないアナライザ設計が可能になり、全体的な所有コストを削減
TDLAS製品
受賞歴のある当社のガス分析用製品ラインナップの詳細をご確認ください
Endress+Hauserは、TDLASアナライザを使用したプロセスガス流内の検体分子濃度（H2O、H2S、CO2、NH3、C2H2）の検出および測定技術を先駆的に開発してきました。この分野における当社の専門知識は、当社が取得した数々の特許によって裏付けられています。近年の半導体レーザーの進歩により、プロセスガスモニタアプリケーション向けTDLASの実用性は技術的にもコスト的にも高まっています。
製品
| FLEX セレクション | 技術的卓越性 | シンプルさ |
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Fundamental セレクション 基本的な測定要件に対応 |
技術的卓越性
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シンプルさ
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Lean セレクション コアプロセスの要件に対応 |
技術的卓越性
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シンプルさ
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Extended セレクション 革新的な技術でプロセスを最適化 |
技術的卓越性
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シンプルさ
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Xpert セレクション 最も困難なアプリケーションにも対応 |
技術的卓越性
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シンプルさ
高い柔軟性 |
ダウンロード
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TDLAS analyzers for natural gas processing
TDLAS analyzers for natural gas processing - accurate and reliable measurement
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TDLAS and QF analyzers technology guide
TDLAS and QF analyzers technology guide - Principle of operation, configurations, and certification information
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