革新的なTempCメンブレン

ダイアフラムシールを用いた圧力および差圧計測で高い精度とプロセス安全性を実現

高温または低温プロセスや腐食性の対象物や強い振動がある場合は、ダイアフラムシールによって最適な計測結果が得られます。このようなアプリケーションにおいてさらに精度を高め、プロセス安全性を向上させるため、エンドレスハウザーはまったく新しい技術に基づいてTempC(Temperature Compensatory) メンブレンを開発しました。特許を取得した温度補償機能付きのTempCメンブレンは、その新技術により高い精度とプロセス安全性の向上を約束します。

プロセス産業用フランジ付き TempC メンブレン

新しいTempCメンブレン

CerabarTempCメンブレン付きPMP55 ©Endress+Hauser
CerabarTempCメンブレン付きPMP75 ©Endress+Hauser
DeltabarTempCメンブレン付きFMD71 ©Endress+Hauser

利点

  • 収益性とプラントの可用性を向上

  • 非常に低い温度効果がプロセスおよび周囲温度の変動による影響を最小限に抑えるため、高精度で安定した測定が保証されます。測定信号への温度影響は最小限に抑制されます。

  • TempCメンブレンは-40℃~400 °Cの温度範囲で使用できます。これにより、非常に長いサイクルで高温の洗浄または滅菌(CIP/SIP)が行われる食品やライフサイエンス産業のアプリケーションにおいても最高のプロセス安全性が保証されます。

  • TempCメンブレンにより従来より小口径のプロセス接続が提供できます。温度影響を低減する新ダイアフラムにより、従来のダイアフラムより小口径のダイアフラムを可能にします。

  • ダイアフラムの温度衝撃後の迅速なダイアフラム復帰によりバッチアプリケーションにおけるダウンタイムの削減、その結果、生産プラントの大幅な可用性向上が実現します。

次の製品は革新的なTempCメンブレン付きで提供可能です:PMP55PMP75FMD78