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product picture of the particle measuring device FWE200DH

FWE200DH
particle measuring device

Reliable dust measurement in wet gases

IDFW200
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product picture of the particle measuring device FWE200DH
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©Endress+Hauser

仕様一覧

  • 測定原理

    前方散乱光

  • 測定変数

    散乱光強度、粉じん濃度（重量法による比較測定後）

  • プロセス温度

    PVDFガス採取プローブ：≤ +120 °C
    鋼製およびハステロイ製ガス採取プローブ：≤ +220 °C
    より高温に対応するバージョンは要問い合わせ

  • 認証測定範囲

    粉じん濃度：0～7.5 mg/m³ / 0～10 mg/m³ / 0～15 mg/m³ / 0～50 mg/m³ / 0～100 mg/m³ / 0～200 mg/m³ / 0～500 mg/m³

アプリケーション

The FWE200DH dust measuring device is designed to continuously measure dust concentrations in wet gases. The gas is extracted via a gas sampling probe and heated above the dew point. Droplets in the gas vaporize, making it impossible for them to falsify the measurement results. The very sensitive scattered light measurement principle enables accurate measurements even at low dust concentrations. The FWE200DH meets the requirements of EN 14181 and EN 15267.

  • Monitoring of wet gas scrubbing facilities

  • Meassurement in very wet exhaust air and in technological processes

  • Measurement in wet gas downstream of desulfurization plants


Device properties:

  • For very low to medium dust concentrations

  • Gas sampling and return combined in one probe

  • Contamination check

  • Automatic monitoring of zero and reference point

  • Integrated system diagnostics for early detection of maintenance requirements

利点

  • Reliable and proven dust measurement in wet gases

  • Economic operation due to very few consumable parts and very low installation effort

  • Very low maintenance since no moving parts come into contact with the aggressive gas

  • Very long service life due to intelligent design

ビデオ

  • FWE200DH: Reliable dust measurement in wet gases

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成功事例

  • シンプルな製品

  • 選定、設置、操作が簡単

技術的卓越性

シンプルさ

  • 標準的製品

  • 高い信頼性と堅牢性、容易なメンテナンス

技術的卓越性

シンプルさ

  • ハイエンド製品

  • 高性能で高い利便性

技術的卓越性

シンプルさ

  • 特殊仕様の製品

  • 要件の厳しいアプリケーション向けに設計

技術的卓越性

シンプルさ

高い柔軟性

FLEX セレクション 技術的卓越性 シンプルさ
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Fundamental セレクション

基本的な測定要件に対応

技術的卓越性
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Lean セレクション

コアプロセスの要件に対応

技術的卓越性
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Extended セレクション

革新的な技術でプロセスを最適化

技術的卓越性
シンプルさ
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Xpert セレクション

最も困難なアプリケーションにも対応

技術的卓越性
シンプルさ

高い柔軟性

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