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分子ふるい乾燥機におけるH2Oの検出

ダウンストリームの極低温機器のプラント効率の最適化、損傷防止、ダウンタイム短縮を実現

SS2100: TDLAS 微量水分計

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分子ふるい乾燥機内のH2O濃度を迅速にリアルタイムで測定し、ダウンストリーム設備を保護し、プラントのダウンタイムを最小限に抑えることができます。Endress+Hauserは、ハードウェア、ソフトウェア、サービスのトータルソリューションを提供し、天然ガス処理事業の効率を最適化し、総所有コストを削減するお手伝いをします。

Solution overview:

Available for:
化学産業
石油・ガス/海洋事業

Hardware & Software:

  • TDLAS水分計 SS2100 - シリーズ - アラーム、アナログおよびRS-485出力 - イーサネット上のModbus RTU - 差分分光法
  • パーミエーションデバイスによる内部検証
  • サンプル抽出用プローブ
  • 試料の輸送とプレコンディショニング
  • サンプルベントチューブ
  • サンシェードラック、キャビネット、シェルター
  • 電源・通信ケーブル内部配線
  • ストリームスイッチングシステム

Services:

  • アプリケーションコンサルティング/マイグレーション&サイトサーベイ
  • プロジェクトマネジメント
  • プロジェクトのエンジニアリング設計から実行までを一貫して行う
  • ドキュメンテーション
  • 出荷前立会検査&現地受入試験
  • 顧客トレーニング(プロジェクト毎)
  • 現地試運転調整/性能検証

年間最大 $230'000 の節約

メンテナンス、ダウンタイム、再生コストを削減します

Endress+HauserのTDLASアナライザーソリューションは、実証済みの計測技術により、エネルギー消費量と分子ふるいの寿命を最適化しながら、最適なドライヤーベッドの切り替えを可能にする連続リアルタイム水分測定を提供します。汚染物質の干渉を受けない正確なH2O測定は、ダウンストリーム設備へのダメージを防止します。また、信頼性の高い測定により、再生コストの削減、ダウンタイムの短縮、最小限のメンテナンスでOPEXの低減を実現します。

Endress+Hauserのプロセスオートメーションにおける豊富な経験により、ターンキーインストールや包括的なソリューションをお客様に提供する独自の能力を備えています。Endress+Hauserの特許技術である差動式TDLASは、分子ふるい乾燥機において信頼性の高いH2O測定を実現し、汚染物質の干渉やメンテナンスの負担なしに天然ガス乾燥機のプロセスを迅速かつ確実に制御することができます。

天然ガス、NGL、LNGのプロセスおよび制御の信頼性の高い自動化

ほぼ瞬間的(秒単位)なH2Oモニタリング

メタノールなどの汚染成分との干渉を無視できる

非接触センサーによる堅牢な測定により、メンテナンスの必要性を最小限に抑えます

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TDLAS analyzers for natural gas processing - accurate and reliable measurement
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TDLAS and QF analyzers technology guide - Principle of operation, configurations, and certification information
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