波長可変半導体レーザー(TDLAS)
レーザー式光学技術によるプロセスガスストリーム内の不純物検出と濃度測定により、プラントの安全性と効率を向上
TDLASは、プロセスガス中のppmレベルの低濃度不純物をオンラインかつリアルタイムで測定します。ガスプロセスやパイプライン内の水蒸気(H2O)、二酸化炭素(CO2)、硫化水素(H2S)などを測定するために、ガスプラント事業者によって広く使用されています。早い応答時間で正確かつ安定した測定が可能なTDLASにより、プラントの安全性、効率、および可用性を低コストで実現できます。
©Endress+Hauser
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SS2100 と SS2100I-1 TDLAS アナライザ
SS2100 と SS2100I-1 TDLAS アナライザ
- 安定して確実かつ非常に高速な測定が可能
- パイプラインの腐食防止や爆発リスクの低減により、作業員の安全性およびアセット健全性を維持
- シャットイン、フレアリング、およびガス移送の遮断を回避することで、プロセス効率およびプラントの可用性を向上
- コンプレッサオイル、グリコール、メタノール、アミン、H2S、または水分を含むスラグによる干渉や悪影響を受けにくく、確実かつ継続的なガス移送を可能にするとともに、ガス移送時に発生する問題を排除
- コンパクトかつメンテナンスの手間がかからないアナライザ設計が可能になり、全体的な所有コストを削減
Endress+Hauserは、TDLASアナライザを使用したプロセスガスストリーム内の分析対象分子濃度(たとえば、H2O、H2S、CO2 )の検出および測定技術を先駆的に開発してきました。この分野における当社の専門知識は、当社が取得した数々の特許によって裏付けられています。近年の半導体レーザーの進歩により、プロセスガスモニタアプリケーション向けTDLASは技術的にもコスト的にも実用性が高まっています。
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標準的製品
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高い信頼性と堅牢性、容易なメンテナンス
技術的卓越性
シンプルさ
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特殊仕様の製品
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要件の厳しいアプリケーション向けに設計
技術的卓越性
シンプルさ
| FLEX セレクション |
技術的卓越性 |
シンプルさ |
Fundamental セレクション
基本的な測定要件に対応
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技術的卓越性
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シンプルさ
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技術的卓越性
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シンプルさ
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Extended セレクション
革新的な技術でプロセスを最適化
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技術的卓越性
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シンプルさ
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Xpert セレクション
最も困難なアプリケーションにも対応
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技術的卓越性
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シンプルさ
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被分析および測定範囲
H2S(硫化水素):
0~10 ppmv
0~500 ppmv
その他の範囲は要問い合わせ
危険場所で使用するための認定
ATEX/IECEx/UKEx ゾーン 1
PESO / KTL / JPNEx ゾーン 1
INMETRO ゾーン 1
CNEx ゾーン 1
CSA Class I, Division 1
CSA Class I, ゾーン 1
J22 TDLASガスアナライザ
実績ある技術により、天然ガス、バイオメタン(RNG)、二酸化炭素(CCUS)、および水素ガス中におけるH2Oの信頼性の高い正確な測定を実現
危険場所で使用するための認定
ATEX / IECEx /UKEx Zone 1
PESO / KCs / JPNEx Zone 1
INMETRO Zone 1
CNEx Zone 1
CSA Class I, Division 1
CSA Class I, Zone 1
危険場所で使用するための認定
CSA Class I, Division 2
CSA Class I, Zone 2
TDLAS analyzers for natural gas processing
TDLAS analyzers for natural gas processing - accurate and reliable measurement
ダウンロード
TDLAS and QF analyzers technology guide
TDLAS and QF analyzers technology guide - Principle of operation, configurations, and certification information
ダウンロード
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