化学成分の光学式分析
固体、液体、スラリー、気体用の包括的なラボおよびプロセス用光学式分析システム
F
L
E
X
標準的製品
高い信頼性と堅牢性、容易なメンテナンス
技術的卓越性
シンプルさ
特殊仕様の製品
要件の厳しいアプリケーション向けに設計
技術的卓越性
シンプルさ
FLEX セレクション
技術的卓越性
シンプルさ
Fundamental セレクション
基本的な測定要件に対応
技術的卓越性
シンプルさ
技術的卓越性
シンプルさ
Extended セレクション
革新的な技術でプロセスを最適化
技術的卓越性
シンプルさ
Xpert セレクション
最も困難なアプリケーションにも対応
技術的卓越性
シンプルさ
比較する
Measured variables
Gas components, calorific value, density, Wobbe index, molar mass, compressibility
Measuring medium
Natural gas, biogas, air, H2, O2, N2
Analysis time
≥45 seconds
Measured variables
NO, NO2, NH3, SO2
Process temperature
≤ +550 °C
Ambient temperature range
–20 °C ... +55 °C Temperature change maximum ±10 °C/h
Hazardous area approvals
IECEx: Ex pzc op is [ia] IIC T3 Gc ATEX: II 3G Ex pzc op is [ia] IIC T3 Gc
被分析および測定範囲
H2S(硫化水素): 0~10 ppmv 0~500 ppmv その他の範囲は要問い合わせ
危険場所で使用するための認定
ATEX/IECEx/UKEx ゾーン 1 PESO / KTL / JPNEx ゾーン 1 INMETRO ゾーン 1 CNEx ゾーン 1 CSA Class I, Division 1 CSA Class I, ゾーン 1
レーザー波長
Starter:785 nm ベースモデル:532 nm、785 nm、1000 nm Hybrid:785 nm
スペクトル範囲
Starter 785 nm:300~3300 cm-1 ベースモデル532 nm:150~4350 cm-1 ベースモデル785 nm:150~3425 cm-1 ベースモデル1000 nm:200~2400 cm-1 Hybrid 785 nm:175~1890 cm-1
Measured variables
Dust concentration (after gravimetric comparison measurement), gas velocity, gas pressure, gas temperature
Process temperature
–20 °C ... +200 °C
Process pressure
–70 hPa ... 10 hPa
比較する
Supported products
FLOWSIC200, GM32, MCS100FT, MCS200HW, MCS300P, MERCEM300Z, VICOTEC320, VICOTEC450, VISIC100SF, VISIC50SF, DUSTHUNTER SB100, DUSTHUNTER SP100, FLOWSIC100, MARSIC300, VICOTEC410, GMS800 (DEFOR + OXOR)
Data output
Monitoring Box frontend Alerts in the dashboard Notifications via email Data export (CSV) Data integration into foreign systems (API)
Hosting
Off-premise: https://monitoringbox.endress.com Industrial PC, other solutions on request
Contract type
SaaS (Software as a Service)
Process temperature
-40 °C ... +220 °C
Measuring range
Scattered light intensity: 0 ... 7.5 mg/m3 / 0 ... 3,000 mg/m3 Measuring ranges freely selectable; nine measuring ranges pre-configured (0 ... 7.5/15/45/75/150/225/375/1,000/3,000 mg/m3)
Conformities
TÜV type test Suitability tested acc. DIN EN 15267-1 (2009), DIN-EN 15267-2 (2009), DIN EN 15859 (2010), DIN EN 14181 (2014) Certified for use as Dust monitor and Leak monitor for filter control downstream of dust collectors at installations requiring approval (13th BlmSchV, 17th BlmSchV, 27th BlmSchV, 30th BlmSchV, 44th BlmSchV and TA Luft)
Measured variables
CO2, SO2, NO, NO2, CO, NH3, H2O, CH4
Ambient temperature range
0 °C ... +50 °C Type approved up to 45 °C
Conformities
MARPOL Annex VI and NTC 2008 – MEPC.177(58) Guidelines for exhaust gas cleaning systems – MEPC.340(77) Guidelines for SCR reduction systems – MEPC.198(62) DNV Rules for Type Approvals (2012) IACS E10 and Rules of major classification societies
Measured variables
CH4, CO, CO2, Corg, HCl, H2O, NH3, NO, NO2, N2O, O2, SO2
Ambient temperature range
+5 °C ... +50 °C
Process temperature
≤ +550 °C
Measuring range
More than 60 measuring components available (depending on concentration and sample gas composition) Up to 6 components simultanously 2 measuring ranges per component Automatic measuring range switching (adjaustable) 2 limit values per component Measuring ranges depend on application and combination of measuring components
機器の選択やサイズの特定にお困りですか?
測定タスクや用途に最適な製品の選定・設定をサポートします。
固体、液体、スラリー、粒子、ガスの光学式分析について
Endress+Hauserは、ラボ、プロセス、排出モニタリングのための原子・分子分析ツールの包括的なポートフォリオを提供し、お客様の未来に向けて大きな投資を行っています。 当社の世界トップクラスの光学分析システムは、重要な産業プロセスの最適化や、製品品質および排出のリアルタイムでの高信頼性監視を支援します。 主要な抽出式およびインサイチュ技術には、可変波長半導体レーザー吸収分光法(TDLAS)、消光蛍光法(QF)、ラマン分光法、近赤外(NIR)、赤外(IR)、紫外可視(UV/Vis)、原子吸光法が含まれます。
プロセスの透明性 :光学式分析によるデータがプロセスを可視化し、より的確な意思決定をサポートリアルタイム測定 :数秒から数分で測定可能、ダウンタイムを最小化し、産業プロセスの運用コストを削減品質と信頼性 :光学式分析システムにより、重要な産業プロセスを最適化し、製品品質を確実に監視非侵襲・ハンズフリー測定 :インライン光学式分析で、サンプル準備や取り扱い不要の安全・効率的な測定を実現高い設備稼働率 :操作・保守が容易な光学式システムの導入で、高い稼働率を確保コンプライアンス対応 :排出量を的確に低減するため、ガス濃度の信頼性ある分析・監視が不可欠
光学式分析とは?
光学式分析は、光と物質の相互作用を利用して化学組成を特定し、定量化する技術です。紫外線、可視光線、赤外線といった電磁波が、物質に吸収・発光・散乱・透過される際の挙動を解析します。 この技術は、分光法、イメージング、顕微鏡などの分野で基盤となるもので、光の特性と物質との相互作用を理解することで、分子構造や組成、動態に関する重要な情報を得ることができます。光学式分析を正しく理解するためには、電磁波の性質と、それが物質とどのように作用するかを知ることが不可欠です。
電磁放射とは?
電磁スペクトルは、電磁放射のすべての周波数または波長の範囲を表します。電磁放射は波長によって分類され、電波、マイクロ波、赤外線、可視光線、紫外線、X線、ガンマ線に分けられます。電磁放射はエネルギー、波長、または周波数で表すことができます。その挙動は波長によって異なります。電磁放射は波の性質と粒子の性質の両方を持っています。静止した電荷は電場を生じ、移動する電荷は電場と磁場の両方を生成します。加速された電荷は電磁放射を放出します。
電磁放射は物質とどのように相互作用するのか?
電磁放射と物質の相互作用には、放射の吸収、発光、散乱が含まれます。電磁放射と物質の相互作用の大きさは、分子の双極子モーメントの大きさに依存します。光のスペクトルの異なる領域は、さまざまな分子や原子の特性を理解するために利用されます。
分光法とは?
分光法は、電磁放射と物質の相互作用を研究する技術で、放射の吸収、発光、散乱を含みます。この手法は、原子や分子の組成や構造を理解するための不可欠なツールとして利用されてきました。
化学分析における分光法と測定手法とは?
2012年以来、Endress+Hauserは、インラインまたはラボでの光学分析、ガスモニタリング、ラボ自動化技術に積極的に投資してきました。その一環として、SpectraSensors、Kaiser Optical Systems、Analytik Jena、Blue Ocean Nova AGの買収、さらにSICK AGとの戦略的パートナーシップを実現しました。 この拡張された分析ポートフォリオにより、当社は幅広い分光分析ツールを提供しています。分光法は光学分析技術であり、原子や分子の組成を特異性・操作性・迅速性をもって解析でき、製品やプロセスに関する深い洞察を提供します。化学分析における分光法は、光を用いて物質の組成、構造、濃度を調べる強力な手法です。 Endress+Hauserが提供する主な分光法は以下の通りです:
ラマン分光法 : 散乱レーザー光を解析し、分子振動を検出。化学結合や分子構造の同定に有効。可変波長半導体レーザー吸収分光法 : 特定波長に調整したレーザー光を用いて、ガス濃度を高感度で測定。消光蛍光法(QF: Quenched Fluorescence) 励起分子が発する光を測定し、蛍光強度や減衰の変化を追跡することで酸素などの分析対象を検出。 UV-Vis-NIR分光光度法(紫外・可視・近赤外分光法) 紫外、可視、近赤外領域における反射率、吸光度、透過率を測定。 赤外分光法(IR spectroscopy) 赤外光の吸収を解析し、官能基や分子構造を同定。 原子発光・吸光分光法(Atomic Emission and Absorption Spectroscopy) 原子が発する、または吸収する光を測定し、元素組成を定量。
これらの光学分析技術は、電磁放射と物質の相互作用に基づいており、定性・定量分析の両方において非常に強力なツールです。
ラマン分光法とは?
ラマン分光法 は、化合物の振動モードを解析し、スペクトル分析によって物質の分子指紋を同定することができる強力な分子分光法です。通常、可視光または近赤外のレーザー光を電磁放射源として使用します。本手法では、光が分子振動と相互作用する際に生じる非弾性散乱、すなわちラマン散乱を測定します。吸収を基盤とする分光法とは異なり、ラマン分光法は光の散乱に基づいているため、明確な光路長を必要としません。また、光との相互作用中に電子雲の分極率が変化することに感度を持つため、対称的な結合振動の測定に適しています。他の分子分光法と同様に、ラマン分光法は化学組成や分子構造の同定に用いられますが、高い特異性を有しており、水系試料中でも測定が可能であるなどの重要な利点があります。さらに、プロセス用途においては、研究開発(R&D)から製造段階へ、スケール固有のデータを最小限に抑えたまま定量分析モデルを展開できる点が大きな利点です。
紫外可視分光法(UV/Vis)とは?
紫外可視分光法 (UV/Vis)は、物質による紫外光および可視光の吸収を測定する分析手法です。およそ 200~800 nm の波長範囲で動作し、試料の 濃度、化学構造、純度 を調べるためによく使用されます。 UV/Vis 分析は、医薬品、環境測定、化学研究 などで広く利用されており、迅速かつ信頼性の高い結果を提供します。
近赤外線(NIR)とは?
近赤外線(NIR:Near-Infrared)とは、電磁スペクトルのうちおよそ 780 nm から 2500 nm の波長領域を指します。NIR 分光法は、化学組成の特定、材料特性の監視、非破壊検査などを目的とした光学分析に広く利用されています。特に、炭化水素プロセス、製薬、農業、食品加工といった産業分野において、サンプル前処理を必要としない迅速かつ高精度な分析手法として高い価値を持ちます。
吸収分光法とは?
吸収分光法とは、試料中の原子や分子による特定の波長の電磁放射の吸収を測定する技術です。物質が特定の周波数の光を選択的に吸収することで、吸収が起こります。 この吸収特性を調べることで、試料の組成や濃度に関する有用な情報を得ることができます。
チューナブルダイオードレーザー吸収分光法(TDLAS)とは?
TDLAS とは、分子の振動遷移に伴う双極子モーメントの変化に関連した吸収を解析する赤外分光法の一種です。ガス固有の吸収線に合わせて波長を調整した赤外または近赤外レーザー光を使用し、特定成分の濃度を高精度に測定します。 この手法は Beer–Lambert の法則 に基づいており、物質による光の吸収量と吸収物質の特性を関連付けることで、特定波長でどれだけの光が吸収されたかを定量化し、微量ガスの正確な測定を可能にします。
消光蛍光法(QF)とは?
消光蛍光(QF)とは、蛍光が酸素によって減少、すなわち“消光(クエンチ)”される度合いを測定する光学的手法です。蛍光とは、分子が光を吸収して励起された直後に放出する発光現象を指します。 この手法では一般的に、紫外線(UV)または可視光が光源として使用されます。蛍光分子が励起・発光する過程において、どれだけ蛍光が消光されるかを測定することで、酸素など特定の分析対象物質の存在量や濃度に関する有用な情報を得ることができます。
さらに表示
一部を表示
ラマン分光計
ラマン分光計 - 堅牢な分光測定による化学組成分析
ダウンロード
TDLAS and QF analyzers technology guide
TDLAS and QF analyzers technology guide - Principle of operation, configurations, and certification information
ダウンロード
Emission monitoring solutions
PDF, 4.5 MB
A comprehensive portfolio for continuous emission monitoring. With future-orientated solutions tailored to the respective measuring task in your industry.
ダウンロード
Dust and particle measuring devices
PDF, 3 MB
Comprehensive portfolio of dust and particle measuring devices
ダウンロード
Quality & Compliance
プラントの安全性を高め、製品の品質を確保し、運用を最適化します。ラマン分光法により、ラボからプロセスまで、サンプルの組成および分子構造をリアルタイムで測定します。
製品
石油・ガス産業におけるガス品質、プロセス制御、およびアセット健全性向上のための信頼性の高いH2 S測定
関連トピックス
プラントの安全性および稼働率を最適化します。波長可変半導体レーザー(TDLAS)は、高速かつ確実にプロセスガスストリーム内の濃度をリアルタイムで測定します。
/
お客様のプライバシーを尊重します
Endress+Hauser は Cookie を使用して、閲覧エクスペリエンスを向上させ、統計を収集してサイトの機能を最適化し、カスタマイズされた広告やコンテンツを配信します。
「すべて受け入れる」を選択すると、Cookie の使用に同意したことになります。
詳細については、当社の Cookie ポリシー をご覧ください。
カスタマイズ
重要なもののみ受け入れる
すべて受け入れる