化学成分の光学式分析
固体、液体、スラリー、気体用の包括的なラボおよびプロセス用光学式分析システム
F
L
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標準的製品
高い信頼性と堅牢性、容易なメンテナンス
技術的卓越性
シンプルさ
特殊仕様の製品
要件の厳しいアプリケーション向けに設計
技術的卓越性
シンプルさ
FLEX セレクション
技術的卓越性
シンプルさ
Fundamental セレクション
基本的な測定要件に対応
技術的卓越性
シンプルさ
技術的卓越性
シンプルさ
Extended セレクション
革新的な技術でプロセスを最適化
技術的卓越性
シンプルさ
Xpert セレクション
最も困難なアプリケーションにも対応
技術的卓越性
シンプルさ
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Measured variables
Dust concentration (after gravimetric comparison measurement), gas velocity, gas pressure, gas temperature
Process temperature
–20 °C ... +200 °C
Process pressure
–70 hPa ... 10 hPa
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Supported products
FLOWSIC200, GM32, MCS100FT, MCS200HW, MCS300P, MERCEM300Z, VICOTEC320, VICOTEC450, VISIC100SF, VISIC50SF, DUSTHUNTER SB100, DUSTHUNTER SP100, FLOWSIC100, MARSIC300, VICOTEC410
Data output
Monitoring Box frontend
Hosting
Off-premise: https://monitoringbox.endress.com
Contract type
SaaS (Software as a Service)
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Process temperature
-40 °C ... +220 °C
Measuring range
Scattered light intensity: 0 ... 7.5 mg/m3 / 0 ... 3,000 mg/m3
Conformities
TÜV type test
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Measured variables
NO, NO2, NH3, SO2
Process temperature
≤ +550 °C
Ambient temperature range
–20 °C ... +55 °C
Hazardous area approvals
IECEx: Ex pzc op is [ia] IIC T3 Gc
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Measured variables
CO2, SO2, NO, NO2, CO, NH3, H2O, CH4
Ambient temperature range
0 °C ... +50 °C
Conformities
MARPOL Annex VI and NTC 2008 – MEPC.177(58)
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Measured variables
CH4, CO, CO2, Corg, HCl, H2O, NH3, NO, NO2, N2O, O2, SO2
Ambient temperature range
+5 °C ... +50 °C
Process temperature
≤ +550 °C
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Measuring range
More than 60 measuring components available (depending on concentration and sample gas composition)
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Measured variables
Visibility (K-value)
Measuring range
K-value: 0 ... 150 km⁻¹ / 0 ... 2,000 km⁻¹
Ambient temperature range
–30 °C ... +55 °C
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Measured variables
O2
Measuring range
O2: 0 ... 5 Vol.-% / 0 ... 100 Vol.-%
Ambient temperature range
–20 °C ... +60 °C
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Measured variables
Visibility (K-value), CO, NO, NO2
Measuring range
Visibility (K-value): 0 ... 15 km⁻¹
Conformities
ASTRA "Guideline - Ventilation of Road Tunnels" (2008)
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化学プロセスの監視、測定、制御は、プロセス開発のスピードアップ、プロセス効率の向上、プロセスの安全性の最大化、そして製品品質の確保に重要です。光学式分析システムは、お客様が重要な工業プロセスを最適化し、記録的な速さで製品品質をより確実にモニタするのに役立ちます。主な技術としては、ラマン分光法、TDLAS（波長可変半導体レーザー吸光分光）、QF（蛍光消光）などがあります。
プロセスの透明性: 私たちの高度な分析技術は、お客様のプロセスを知るための窓を提供します。ケミストリから推測する作業を排除し、データに基づいてより良い決定を下すことができます。リアルタイムの測定: 24時間365日のオンラインおよびインラインでのプロセス変数の測定により、当社の装置はリアルタイムデータを提供します。これにより、ダウンタイムを最小限に抑え、運用コストを管理し、安全リスクを積極的に軽減することができます。品質と信頼性: 再現性のある正確な測定で、品質パラメータを厳密に管理し、歩留まりを向上させます。最先端の産業IoT対応分析装置は、データに素早くアクセスでき、PAC/PATを実現します。スケーラビリティ: 当社のラマンシステムは、R&Dラボから製造環境へのプロトコルの移行を容易にする共通技術を有しています。これにより、プロセス環境へのスケールアップやスケールアウトを迅速かつシームレスに行うことができます。プラントの高い稼働率: インストールと操作が簡単な産業IoT対応システムは、自動化の促進、サイクルタイムの短縮、中断のないバッチ/連続処理の実現に役立つデータを提供します。
プラントの安全性を高め、製品の品質を確保し、運用を最適化します。ラマン分光法により、ラボからプロセスまで、サンプルの組成および分子構造をリアルタイムで測定します。
石油・ガス産業におけるガス品質、プロセス制御、およびアセット健全性向上のための信頼性の高いH2 S測定
プラントの安全性および稼働率を最適化します。波長可変半導体レーザー（TDLAS）は、高速かつ確実にプロセスガスストリーム内の濃度をリアルタイムで測定します。
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