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化学成分の光学式分析

固体、液体、スラリー、気体用の包括的なラボおよびプロセス用光学式分析システム

光学解析のキービジュアル
77 製品
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product picture of the process gas analyzer ENERSIC600
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  • シンプルな製品

  • 選定、設置、操作が簡単

技術的卓越性

シンプルさ

  • 標準的製品

  • 高い信頼性と堅牢性、容易なメンテナンス

技術的卓越性

シンプルさ

  • ハイエンド製品

  • 高性能で高い利便性

技術的卓越性

シンプルさ

  • 特殊仕様の製品

  • 要件の厳しいアプリケーション向けに設計

技術的卓越性

シンプルさ

高い柔軟性

FLEX セレクション 技術的卓越性 シンプルさ
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Fundamental セレクション

基本的な測定要件に対応

技術的卓越性
シンプルさ
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Lean セレクション

コアプロセスの要件に対応

技術的卓越性
シンプルさ
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Extended セレクション

革新的な技術でプロセスを最適化

技術的卓越性
シンプルさ
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Xpert セレクション

最も困難なアプリケーションにも対応

技術的卓越性
シンプルさ

高い柔軟性
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product picture of the process gas analyzer ENERSIC600 ENERSIC600 process gas analyzer
ENERSIC600 process gas analyzer

Gas chromatograph for reliable custody transfer gas analysis – energy management included

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Measured variables Gas components, calorific value, density, Wobbe index, molar mass, compressibility
Measuring medium Natural gas, biogas, air, H2, O2, N2
Analysis time ≥45 seconds
製品写真：排出ガス監視ソリューションGM32
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製品写真：排出ガス監視ソリューションGM32 GM32 排出ガス監視ソリューション
GM32 排出ガス監視ソリューション

防爆ゾーンにおいても刺激性ガスを直接高速測定

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Measured variables NO, NO2, NH3, SO2
Process temperature ≤ +550 °C
Ambient temperature range –20 °C ... +55 °C
Temperature change maximum ±10 °C/h
Hazardous area approvals IECEx: Ex pzc op is [ia] IIC T3 Gc
ATEX: II 3G Ex pzc op is [ia] IIC T3 Gc
覗き窓付き密閉エンクロージャ組込型TDLASアナライザ JT33
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覗き窓付き密閉エンクロージャ組込型TDLASアナライザ JT33 TDLASガスアナライザ JT33
TDLASガスアナライザ JT33

品質向上、プロセス制御、およびアセット健全性のための信頼性の高いH2S測定

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被分析および測定範囲 H2S（硫化水素）：
0～10 ppmv
0～500 ppmv
その他の範囲は要問い合わせ
危険場所で使用するための認定 ATEX/IECEx/UKEx ゾーン 1
PESO / KTL / JPNEx ゾーン 1
INMETRO ゾーン 1
CNEx ゾーン 1
CSA Class I, Division 1
CSA Class I, ゾーン 1
製品写真：Raman Rxn2アナライザ（正面左）
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製品写真：Raman Rxn2アナライザ（正面左） Raman Rxn2アナライザ
Raman Rxn2アナライザ

ラボからプロセス環境まで、アプリケーションをつなぐRaman Rxn2アナライザ

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レーザー波長 Starter：785 nm
ベースモデル：532 nm、785 nm、1000 nm
Hybrid：785 nm
スペクトル範囲 Starter 785 nm：300～3300 cm-1
ベースモデル532 nm：100～4350* cm-1
ベースモデル785 nm：100～3425* cm-1
ベースモデル1000 nm：200～2400 cm-1
Hybrid 785 nm：150～1890** cm-1
*<150 cm-1において低い信号対雑音（S/N）比
**<175 cm-1において低い信号対雑音（S/N）比
product picture of the emission monitoring solution Combiprobe CP100
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product picture of the emission monitoring solution Combiprobe CP100 Combiprobe CP100 particle measuring device
Combiprobe CP100 particle measuring device

Combined measurement of dust, volume flow, pressure, and temperature

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Measured variables Dust concentration (after gravimetric comparison measurement), gas velocity, gas pressure, gas temperature
Process temperature –20 °C ... +200 °C
Process pressure –70 hPa ... 10 hPa
product picture of the digital analyzer solution Monitoring Box
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product picture of the digital analyzer solution Monitoring Box Monitoring Box digital analyzer solution
Monitoring Box digital analyzer solution

Analytical processing of status and application data

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Supported products FLOWSIC200, GM32, MCS100FT, MCS200HW, MCS300P, MERCEM300Z, VICOTEC320, VICOTEC450, VISIC100SF, VISIC50SF, DUSTHUNTER SB100, DUSTHUNTER SP100, FLOWSIC100, MARSIC300, VICOTEC410, GMS800 (DEFOR + OXOR)
Data output Monitoring Box frontend
Alerts in the dashboard
Notifications via email
Data export (CSV)
Data integration into foreign systems (API)
Hosting Off-premise: https://monitoringbox.endress.com
Industrial PC, other solutions on request
Contract type SaaS (Software as a Service)
製品写真：粒子計測機器DUSTHUNTER SP30
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製品写真：粒子計測機器DUSTHUNTER SP30 DUSTHUNTER SP30 粒子計測機器
DUSTHUNTER SP30 粒子計測機器

インテリジェントな測定により、コストを削減

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Process temperature -40 °C ... +220 °C
Measuring range Scattered light intensity: 0 ... 7.5 mg/m3 / 0 ... 3,000 mg/m3
Measuring ranges freely selectable; nine measuring ranges pre-configured (0 ... 7.5/15/45/75/150/225/375/1,000/3,000 mg/m3)
Conformities TÜV type test
Suitability tested acc. DIN EN 15267-1 (2009), DIN-EN 15267-2 (2009), DIN EN 15859 (2010), DIN EN 14181 (2014)
Certified for use as Dust monitor and Leak monitor for filter control downstream of dust collectors at installations requiring approval (13th BlmSchV, 17th BlmSchV, 27th BlmSchV, 30th BlmSchV, 44th BlmSchV and TA Luft)
product picture of the emission monitoring solution MARSIC300
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product picture of the emission monitoring solution MARSIC300 MARSIC300 emission monitoring solution
MARSIC300 emission monitoring solution

Safely on the right course

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Measured variables CO2, SO2, NO, NO2, CO, NH3, H2O, CH4
Ambient temperature range 0 °C ... +50 °C
Type approved up to 45 °C
Conformities MARPOL Annex VI and NTC 2008 – MEPC.177(58)
Guidelines for exhaust gas cleaning systems – MEPC.340(77)
Guidelines for SCR reduction systems – MEPC.198(62)
DNV Rules for Type Approvals (2012)
IACS E10 and Rules of major classification societies
製品写真：ガス分析計MCS200HW
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製品写真：ガス分析計MCS200HW MCS200HW 排出ガス監視ソリューション
MCS200HW 排出ガス監視ソリューション

煙道ガス監視のための、実績ある測定技術

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Measured variables CH4, CO, CO2, Corg, HCl, H2O, NH3, NO, NO2, N2O, O2, SO2
Ambient temperature range +5 °C ... +50 °C
Process temperature ≤ +550 °C
製品写真：プロセスガス分析計MCS300P
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製品写真：プロセスガス分析計MCS300P MCS300P プロセスガス分析計
MCS300P プロセスガス分析計

最大6種の測定成分の同時プロセス監視

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Measuring range More than 60 measuring components available (depending on concentration and sample gas composition)
Up to 6 components simultanously
2 measuring ranges per component
Automatic measuring range switching (adjaustable)
2 limit values per component
Measuring ranges depend on application and combination of measuring components

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光学式分析について

化学プロセスの監視、測定、制御は、プロセス開発のスピードアップ、プロセス効率の向上、プロセスの安全性の最大化、そして製品品質の確保に重要です。光学式分析システムは、お客様が重要な工業プロセスを最適化し、記録的な速さで製品品質をより確実にモニタするのに役立ちます。主な技術としては、ラマン分光法、TDLAS（波長可変半導体レーザー吸光分光）、QF（蛍光消光）などがあります。

利点

  • プロセスの透明性: 私たちの高度な分析技術は、お客様のプロセスを知るための窓を提供します。ケミストリから推測する作業を排除し、データに基づいてより良い決定を下すことができます。
  • リアルタイムの測定: 24時間365日のオンラインおよびインラインでのプロセス変数の測定により、当社の装置はリアルタイムデータを提供します。これにより、ダウンタイムを最小限に抑え、運用コストを管理し、安全リスクを積極的に軽減することができます。
  • 品質と信頼性: 再現性のある正確な測定で、品質パラメータを厳密に管理し、歩留まりを向上させます。最先端の産業IoT対応分析装置は、データに素早くアクセスでき、PAC/PATを実現します。
  • スケーラビリティ: 当社のラマンシステムは、R&Dラボから製造環境へのプロトコルの移行を容易にする共通技術を有しています。これにより、プロセス環境へのスケールアップやスケールアウトを迅速かつシームレスに行うことができます。
  • プラントの高い稼働率: インストールと操作が簡単な産業IoT対応システムは、自動化の促進、サイクルタイムの短縮、中断のないバッチ/連続処理の実現に役立つデータを提供します。

信頼性の高いH₂S測定のために：JT33 TDLASガス分析計

石油・ガス業界におけるガス品質、プロセス制御、資産の健全性向上のための信頼性の高いH₂S測定。

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ニュース、イベントなど

ラマン分光法技術
Quality & Compliance

ラマン分光法 - 高度な光学分析技術

プラントの安全性を高め、製品の品質を確保し、運用を最適化します。ラマン分光法により、ラボからプロセスまで、サンプルの組成および分子構造をリアルタイムで測定します。

ガスストリーム測定用 H2Sアナライザ JT33
製品

信頼性の高いH2S測定のために：TDLASガスアナライザ JT33

石油・ガス産業におけるガス品質、プロセス制御、およびアセット健全性向上のための信頼性の高いH2S測定

3製品の写真：パネルに取り付けたJ22 TDLAS、エンクロージャボックス、J22ガスアナライザ
関連トピックス

波長可変半導体レーザー（TDLAS）

プラントの安全性および稼働率を最適化します。波長可変半導体レーザー（TDLAS）は、高速かつ確実にプロセスガスストリーム内の濃度をリアルタイムで測定します。

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